WEKO3
アイテム
半導体装置製造用の電子サイクロトロン共鳴を用いたエッチング処理室におけるマイクロ波伝搬と均一プラズマ生成に関する研究
http://hdl.handle.net/10636/00001971
http://hdl.handle.net/10636/00001971430f4a1c-5232-439f-a885-f3c069d7844f
名前 / ファイル | ライセンス | アクション |
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Item type | 学位論文 / Thesis or Dissertation(1) | |||||||||||
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公開日 | 2022-06-13 | |||||||||||
タイトル | ||||||||||||
言語 | ja | |||||||||||
タイトル | 半導体装置製造用の電子サイクロトロン共鳴を用いたエッチング処理室におけるマイクロ波伝搬と均一プラズマ生成に関する研究 | |||||||||||
タイトル | ||||||||||||
言語 | en | |||||||||||
タイトル | Study on microwave propagation and uniform plasma generation in an electron cyclotron etching reactor for semiconductor manufacturing | |||||||||||
タイトル | ||||||||||||
言語 | ja-Kana | |||||||||||
タイトル | ハンドウタイソウチセイゾウヨウノデンシサイクロトロンキョウメイヲモチイタエッチングショリシツニオケルマイクロハデンパントキンイツプラズマセイセイニカンスルケンキュウ | |||||||||||
言語 | ||||||||||||
言語 | eng | |||||||||||
資源タイプ | ||||||||||||
資源タイプ識別子 | http://purl.org/coar/resource_type/c_db06 | |||||||||||
資源タイプ | doctoral thesis | |||||||||||
アクセス権 | ||||||||||||
アクセス権 | open access | |||||||||||
アクセス権URI | http://purl.org/coar/access_right/c_abf2 | |||||||||||
著者 |
田村, 仁
× 田村, 仁
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所属 | ||||||||||||
所属 | Department of Mechanical Systems Engineering, Graduate School of Engineering / 工学府 機械システム工学専攻 | |||||||||||
学位名 | ||||||||||||
学位名 | 博士(工学)(ja) Doctor of Philosophy (Engineering)(en) |
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学位授与機関 | ||||||||||||
学位授与機関識別子Scheme | kakenhi | |||||||||||
学位授与機関識別子 | 12605 | |||||||||||
言語 | ja | |||||||||||
学位授与機関名 | 東京農工大学 | |||||||||||
言語 | en | |||||||||||
学位授与機関名 | Tokyo University of Agriculture and Technology | |||||||||||
学位授与年月日 | ||||||||||||
学位授与年月日 | 2022-03-25 | |||||||||||
学位授与番号 | ||||||||||||
学位授与番号 | 博工甲第1227号 |